鈮濺射靶材的應用領域及工藝概述

產品名稱：鈮濺射靶材

材料：純鈮，鈮合金

牌號：R04200，R04210，Nb1，Nb2，NbZr1

密度：≥8.6g/cm³

熔點：2468℃。

真空電子束熔煉工藝生產鈮板，是先將未鍛壓過的鈮條通過真空電子束熔煉爐熔煉成鈮錠，通常分單次熔煉和多次熔煉，我們通常采用兩次熔煉的鈮錠，根據產品要求的不同我們可以進行兩次以上的熔煉。

應用：

鈮靶材廣泛應用于超導行業(yè)、用于生產鈮箔、高溫爐內隔熱屏、用于生產鈮焊管、用于生產人體植入件。

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